odborný pracovník
Ing. Adrian Ritomský
Medzinárodné
Ukončené
- Technológia výroby matice paralelných inteligentných nosníkov –sondových platform pre analýzu a syntézu v nanometrovej oblastiProgram: 6RPDoba trvania: 1. 4. 2005 – 30. 9. 2010
- Inovácia sub-mikrometrovej elektrónovej litografieProgram: Bilaterálne - inéDoba trvania: 1. 1. 2007 – 31. 12. 2009
- Radikálna inovácia bezmaskovej nanolitografieProgram: 6RPDoba trvania: 1. 10. 2005 – 30. 9. 2008
Národné
Aktuálne
- Progresívne metódy transferu nanoštruktúrnych polovodivých 2D materiálov na báze dichalkogenidov tranzitných kovov do mikroelektronických prvkovProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2022 – 31. 12. 2025
Ukončené
- Elektrónová litografia nanometrových štruktúr pre 2D materiály na báze sulfidov kovovProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2018 – 31. 12. 2021
- Automatické hodnotenie akútneho stresu z rečiProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2018 – 31. 12. 2020
- Výskum procesov prípravy štruktúr pre obvody na nanometrovej úrovniProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2015 – 31. 12. 2017
- Pokročilé mikro/nano technologické procesy s využitím elektrónovej litografie.Program: VEGADoba trvania: 1. 1. 2012 – 31. 12. 2014
- Pokročilé piezoelektrické MEMS senzory tlakuProgram: APVVDoba trvania: 1. 5. 2011 – 31. 10. 2014
- Odolný senzorický systém do priemyselných prostredí s vysokými tlakmi, teplotami a vysokým stupňom elektromagnetického rušeniaProgram: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývojDoba trvania: 1. 1. 2011 – 31. 10. 2013
- Výskum nových nanolitografických technológiiProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2009 – 31. 12. 2011
- Centrum excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike - I.etapaProgram: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývojDoba trvania: 15. 5. 2009 – 14. 5. 2011
- Technológia výroby matice paralelných inteligentných nosníkov – sondových platform pre analýzu a syntézu v nanometrovej oblastiProgram: Vedecko-technické projektyDoba trvania: 1. 1. 2009 – 31. 12. 2009
- Fyzika informácieProgram: Centrá excelentnosti SAVDoba trvania: 1. 1. 2005 – 31. 12. 2008
- Výskum nových rezistových materiálov pre litografiu novej generácieProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2006 – 1. 12. 2008