Rozdelené sú do 3 kategórií:
1. Bežné laboratórne priestory s klimatizáciou o ploche 90 m2
2. Čisté priestory s výkonnou vzduchotechnikou s minimálnou triedou čistoty 1000 a teplotnou stablizáciou ±3°C o ploche 65 m2 (celkové priestory tejto časti 112 m2).
3. Čisté priestory s výkonnou vzduchotechnikou s minimálnou triedou čistoty 1000 a teplotnou stablizáciou ±0,5°C o ploche 65 m2. Zoznam zariadení:
– Medzi unikátne a kľúčové zariadenia výskumno-vývojovej infraštruktúry ÚI SAV patria 2 elektrónové litografy s variabilným prierezom elektrónového lúča:
elektrónový litograf ZBA 21S s energiou elektrónov 20 keV (Vistec-Leica Microsystems Lithography), ktorý umožňuje prípravu štruktúr v submikrometrovej oblasti rozmerov (minimálny reprodukovateľný rozmer 400 nm) na podložkách s priemerom až do 15 cm; elektrónový litograf ZBA 23 s energiou elektrónov 40 keV (Vistec-Leica Microsystems Lithography), ktorý umožňuje prípravu štruktúr v submikrometrovej oblasti rozmerov (minimálny reprodukovateľný rozmer 200 nm) na podložkách s priemerom až do 18 cm.
