Publikácie

výskumný pracovník
RNDr. Ivan Kostič

Publikácie za rok 2026

Publikačná činnosť obsahuje údaje z on-line databázy Ústrednej Knižnice SAV.
Zvoľte si rok pre výpis publikácií

Publikácie

  • KADLEČÍKOVÁ, M.** - HOTOVÝ, I. - KUMAR, N. - KOSTIČ, Ivan - SOJKOVÁ, Michaela. E12g band of Raman spectral characteristics of nanostructured WS2 films sputtered on sapphire. In AIP Conference Proceedings : APCOM 2025, 2026, vol. 3455, art. no. 020001. (2025: 0.146 - SJR). ISSN 0094-243X. Dostupné na: https://doi.org/10.1063/5.0328520 Typ: ADMB
  • KUMAR, N. - HOTOVÝ, I.** - KADLEČÍKOVÁ, M. - SOJKOVÁ, Michaela - KOSTIČ, Ivan - GREGUŠOVÁ, Dagmar - POHORELEC, Ondrej - STOPJAKOVÁ, V. - DOBROČKA, Edmund. Low-temperature ammonia sensing using sulfurized WS2 thin films. In Sensors, 2026, vol. 26, art. no. 4429. (2025: 4 - IF, Q2 - JCR, 0.802 - SJR, Q1 - SJR). ISSN 1424-8220. Dostupné na: https://doi.org/10.3390/s26144429 . VEGA 2/0075/25 : Heteroštruktúry na báze 2D dichalkogenidov prechodných kovov pre elektronické. APVV-21-0278 : Nanoštrukturované tenkovrstvové materiály vyznačujúce sa slabými väzbovými interakciami pre elektronické a senzorické aplikácie. Typ: ADCA
  • NEMEC, Pavol - VUTOVA, Katia - KONEČNÍKOVÁ, Anna - KOSTIČ, Ivan - MANOILOV, Evgeniy - ŠKRINIAROVÁ, Jaroslava. Surface characterization of 2D layers for sensor applications using SEM and 3D laser microscopy. In Industry 4.0, 2025, vol. 10, no. 5, p. 174-177. ISSN 2534-997X. Dostupné na internete: https://stumejournals.com/journals/i4/2025/5/174.full.pdf Typ: ADEB
  • PREDANOCY, Martin - VUTOVA, Katia - BENČUROVÁ, Anna - KOLEVA, Elena - MANOILOV, Evgeniy - KOSTIČ, Ivan**. Study on patterns in electron beam lithography for sub-micrometer line gratings. In Industry 4.0, 2026, vol. 11, no. 4, p. 175-178. ISSN 2534-997X. Dostupné na internete: https://stumejournals.com/journals/i4/2026/4/175.full.pdf Typ: ADEB
  • PREDANOCY, Martin - VUTOVA, Katia - BENČUROVÁ, Anna - RITOMSKÝ, Mário - MANOILOV, Evgeniy - KOSTIČ, Ivan**. Comparative study of the negative resists AR-N 7520 and ma-N 2410 in electron beam lithography. In AIP Conference Proceedings, 2026, vol. 3455, art. no. 020005. (2025: 0.146 - SJR). ISSN 0094-243X. Dostupné na: https://doi.org/10.1063/5.0327396 (APCOM 2025 : International Conference on Applied Physics of Condensed Matter.) Typ: ADMB
Pracovníci