Vedúci: Ing. Mgr. Robert Andok, PhD.
Zástupca vedúceho: RNDr. I. Kostič
| Oddelenie elektrónovej litografie sa dlhodobo zaoberá výskumom v oblasti mikrotechnológií založených na využití elektrónového lúča. Výskumnou prioritou Oddelenia elektrónovej litografie ÚI SAV je výskum v oblasti metód prípravy mikrometrových a nanometrových štruktúr s využitím elektrónového lúča a ich využitie v širokom rozsahu aplikácií v oblasti materiálového výskumu a nanotechnológií.Výskumné témy: – Výskum fyzikálnych javov v elektrónovej litografii pri príprave štruktúr v tenkých vrstvách v sub-mikrometrovej (150-900 nm) a nanometrovej oblasti rozmerov (10-100 nm). – Výskum rezistových materiálov citlivých na elektrónové žiarenie. – Optimalizácia litografických procesov a korelácia následných technologických procesov ako je plazmatické leptanie a príprava tenkých vrstiev s využitím rezistových masiek. Cieľ výskumu: |
