RESEARCH PROJECT NAME
Investigation of novel nanolithographic technologies
|
Slovenský názov |
Výskum nových
nanolitografických technológii |
Evidenčné číslo
projektu |
2/0214/09 |
Začiatok:
01.01.2009 Koniec: 31.12.2011 |
Zodpovedný
riešiteľ |
Pavol Hrkút |
Program |
VEGA |
Anotácia (SK) |
Predmet
riešenia navrhovaného projektu patrí do oblasti vývoja nových
nanolitografických technológií a postupov, ktoré sú kľúčovou
technológiou vo výrobe nanoelektronických obvodov a nanosystémov.
Nové a progresívne riešenia vo vývoji nanotechnológií budú hrať
rozhodujúcu úlohu pre výrobu obvodov s rozmermi elementov menej
ako 50 nm, v nanofotonike, v nanomagnetických prvkoch, v
molekulárnej nanotechnológii, NEMS (nano-elektro-mechanických
systémoch) technológii a pod. Príprava nanometrových štruktúr na
neštandardných podložkách priamou litografiou s maximálnou
presnosťou súkrytu ako aj príprava membránových masiek pre
iónovú litografiu sú hlavnou oblasťou navrhovaného projektu. K
tomu je potrebné optimalizovať expozície vhodných maskovacích
materiálov (rezistov), prípravu dát pomocou nových algoritmov a
optimalizáciu nových technologických procesov prípravy štruktúr. |
Anotácia (EN) |
The subject of the
solving of the proposed project belongs to the area of
development of new nanolithographical technologies and
techniques which are a key technology in the fabrication of
nanoelectronic circuits and nanosystems. New and progressive
solutions in the nanotechnology development will play a crucial
role in the production of circuits with element dimensions
smaller than 50 nm, in nanophotonics, nanomagnetic devices,
molecular nanotechnology, NEMS (nano-electro-mechanical systems)
technologies and the like. Preparation of nanometrical
structures on non-standard substrates by direct lithography with
maximal alignment precision as well as membrane-masks
preparation for ion-beam lithography are main area of the
proposed project. To achieve this one needs to optimize
expositions of suitable masking materials (resists), preparation
of the data by using new algorithms and optimization of new
technological processes of the structures preparation. |
|
|