Projects/International/Investigation of novel nanolithographic technologies

 
RESEARCH PROJECT NAME

Investigation of novel nanolithographic technologies


Slovenský názov

Výskum nových nanolitografických technológii

Evidenčné číslo projektu

2/0214/09

Začiatok: 01.01.2009 Koniec: 31.12.2011

Zodpovedný riešiteľ

Pavol Hrkút

Program

VEGA

Anotácia (SK)

Predmet riešenia navrhovaného projektu patrí do oblasti vývoja nových nanolitografických technológií a postupov, ktoré sú kľúčovou technológiou vo výrobe nanoelektronických obvodov a nanosystémov. Nové a progresívne riešenia vo vývoji nanotechnológií budú hrať rozhodujúcu úlohu pre výrobu obvodov s rozmermi elementov menej ako 50 nm, v nanofotonike, v nanomagnetických prvkoch, v molekulárnej nanotechnológii, NEMS (nano-elektro-mechanických systémoch) technológii a pod. Príprava nanometrových štruktúr na neštandardných podložkách priamou litografiou s maximálnou presnosťou súkrytu ako aj príprava membránových masiek pre iónovú litografiu sú hlavnou oblasťou navrhovaného projektu. K tomu je potrebné optimalizovať expozície vhodných maskovacích materiálov (rezistov), prípravu dát pomocou nových algoritmov a optimalizáciu nových technologických procesov prípravy štruktúr.

Anotácia (EN)

The subject of the solving of the proposed project belongs to the area of development of new nanolithographical technologies and techniques which are a key technology in the fabrication of nanoelectronic circuits and nanosystems. New and progressive solutions in the nanotechnology development will play a crucial role in the production of circuits with element dimensions smaller than 50 nm, in nanophotonics, nanomagnetic devices, molecular nanotechnology, NEMS (nano-electro-mechanical systems) technologies and the like. Preparation of nanometrical structures on non-standard substrates by direct lithography with maximal alignment precision as well as membrane-masks preparation for ion-beam lithography are main area of the proposed project. To achieve this one needs to optimize expositions of suitable masking materials (resists), preparation of the data by using new algorithms and optimization of new technological processes of the structures preparation.