RESEARCH PROJECT NAME
Hybrid Spintronic Nanostructures Controlled by Spin-Polarized Current
|
Slovenský názov |
Hybridné spintronické štruktúry riadené spinovopolarizovaným prúdom |
|
Akronym |
NANO-SPIN |
|
Evidenčné číslo projektu |
APVV-0173-06 |
|
Začiatok: 01.01.2007 Koniec: 31.12.2010 |
|
|
Koordinátor projektu |
Fyzikálny ústav SAV |
|
Krajina koordinátora |
Slovensko
|
|
Program |
APVV |
|
Podprogram |
Všeobecná 2007 |
|
Anotácia (SK) |
Cieľom projektu je zhotovenie, charakterizácia a výskum nových GMR a TMR štruktúr pre spintroniku, ktoré sú založené na prúdom indukovanom preklápaní magnetizácie (CIMS) s využitím ako senzory magnetického poľa. Pripravíme a preskúmame spintronické GMR a TMR nanostlpiky (laterálny rozmer (150 nm) pre výskum prúdom indukovaného preklápanie magnetizácie (CIMS). GMR nanostlpiky pripravime UHV depozíciou a nanočasticovou lift-off litografiou a elektrónovou litografiou (EBL). Inovatívne TMR nanostlpiky so zabudovanými magnetickými nanocasticami budú pripravené kombináciou UHV naparovania, LB depozície nanočastíc a EBL. Magnetické konfigurácie nanostlpikov budú skúmané rastrovacím MOKE mikroskopom. Bude analyzovaný súvis štruktúry nanostlpikov, drsnosti rozhraní (vertikálnej a laterálnej korelácie drsnosti) a Néelovej feromagnetickej väzby s magnetickým a CIMS správaním sa pripravených štruktúr s cieľom dosiahnuť zníženie hustoty preklápacieho prúdu. Preskúma sa priebeh magnetizácie in situ pri jej preklápaní spinovo-polarizovaným prúdom simultánnymi meraniami závislostí dynamického elektrického odporu vs. prúd a Kerrovej rotácie vs. magnetické pole. ÚI SAV rieši čiastkovú úlohu prípravy litografických rezistových masiek pre vývoj GMR nanostľpikov |
|
Anotácia (EN) |
Project goal: Spintronic GMR and TMR nanopillars (lateral size (150nm) for current induced magnetization switching (CIMS) studies will be prepared and analyzed. GMR nanopillars will be prepared by UHV deposition and nanoparticles lift off lithography and electron beam lithography (EBL). Novel TMR nanopillars with embedded magnetic nanoparticles will be prepared by UHV evaporation, LB nanoparticles deposition and EBL. Magnetic configurations of nanopillars will be studied by scanning MOKE microscope. We will study correlation between nanopillar structure, interface roughness (vertical and lateral correlations) and Neel ferromagnetic coupling with magnetic and CIMS behavior with the aim to lower the switching current. Magnetization behaviour in situ by its spin polarized current switching will be analyzed by simultaneous simultaneous the R (dynamic) vs. current and Kerr rotation vs. H experiments. Spintronic GMR and TMR nanopillars (lateral size (150nm) for current induced magnetization switching (CIMS) studies will be prepared and analyzed. GMR nanopillars will be prepared by UHV deposition and nanoparticles lift off lithography and electron beam lithography (EBL). Novel TMR nanopillars with embedded magnetic nanoparticles will be prepared by UHV evaporation, LB nanoparticles deposition and EBL. Magnetic configurations of nanopillars will be studied by scanning MOKE microscope. We will study correlation between nanopillar structure, interface roughness (vertical and lateral correlations) and Neel ferromagnetic coupling with magnetic and CIMS behavior with the aim to lower the switching current. Magnetization behaviour in situ by its spin polarized current switching will be analyzed by simultaneous simultaneous the R (dynamic) vs. current and Kerr rotation vs. H experiments. The role of UI SAV is the preparation of lithographic masks for GMR nanopillars. |
|
Partnerské inštitúcie |
Slovensko: FÚ SAV (koordinátor), ÚP SAV, ÚEF SAV, FEI STU, Medzinárodné laserové centrum (Bratislava)
|
|
WWW stránka projektu |
|